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如何選擇電解設備？之電解處理去除鍍液金屬雜質方法？

　　電鍍廠如何選擇電鍍電解設備?電解設備的選擇一定要注意企業(yè)的制造實力，經(jīng)驗是否豐富和售后服務是否進跟及時到位。東莞振遠科技19年專注電鍍設備解決方案制造商，經(jīng)驗豐富，提供整廠方案設計，設備制造，施工安裝，售后服務一站式服務。

　　一、電解設備中電解條件的抉擇
    電解目的是要去除鍍液中的雜質，然而在電解去除雜質的同時，往往也有溶液中金屬離子的放電堆積。為了達到去除雜質的速率，減慢溶液中有些金屬離子的堆積速率，就要注意電解解決的操作條件。

　　1、溫度和pH值：電解時溫度和pH的抉擇，準則上也是要依據(jù)電鍍時雜質起不良影響較大的溫度和pH范疇。例如鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質，在pH較低時的影響較大，所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質時，應選用低pH停止電解，在這樣的條件下，去除雜質的速率較快。有些雜質在電解進程中會合成為氣體(如NO3-在陰極上復原為氮氧化物或氨，Cl-在陽極上氧化為Cl2，等，這時就應選用低溫電解，使電解進程中造成的氣體揮發(fā)逸出(氣體在溶液中的溶解度，個別隨溫度降低而升高)，從而避免它溶解于水而從新沾污鍍液。

    依照個別規(guī)律，隨著鍍液溫度的降低，電解去除雜質的速率也增大，所以當加溫對鍍液其中成分沒有影響時，電解宜在加溫下停止。但到底在什么溫度為好，可以通過小實驗確定

　　2、電流密度：電解時，多大的電流密度會更好，準則上要依照電鍍時雜質起不良影響的電流密度范疇。也就是說，在電鍍進程中，若雜質的影響反映在低電流密度區(qū)，那么電解時應管制在低電流密度下進行，倘若雜質的影響反映在高電流密度區(qū)，則應選用高電流密度電解；假如雜質在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響，那么可先用高電流密度電解一段工夫，而后再改用低電流密度電解，直至鍍液恢復正常。在個別狀況下，但凡用低電流密度電解可以去除的雜質，為了增加鍍液中一些放電金屬離子的堆積，個別都采用低電流密度電解?，F(xiàn)實上，電鍍時，大多數(shù)雜質的影響反映在低電流密度區(qū)，所以通常電解的電流密度管制在0.1A／dm2～0.5A／dm2之間。

　　3、攪拌：電解既然是依靠雜質在陰極(或陽極)的外表上反饋而被除去，那么就應供應條件，使雜質與電極外表有充沛的接觸時機。攪拌可以加快雜質運轉，使它與電極的接觸時機增多，提高處理效果，電解時應攪拌鍍液。 

　二、電鍍電解的要求

    1、首先要查明雜質能否起源于電解過程：電解可以去除某些雜質，但有時也會發(fā)生雜質。例如有害雜質起源于不純的陽極，電解時仍用這種陽極，那么隨著電解進行時，雜質會越積越多；又如雜質起源于某些化合物在電極上的分解，那么電解將使這類分解產(chǎn)物逐步增多。這樣的電解，不能凈化鍍液，反而會不時加重鍍液的污染。因而，在電解處理前，要先的查看，預防處理中產(chǎn)生有害雜質。

    2、 電解用的陰極(假陰極)面積要盡能夠大：用電解法去除雜質，大多是在陰極外表上進行的，所以增大陰極面積，可以進步去除雜質的效率,同時為了在不同的電流密度部位電解去除鍍液中不同雜質或同一種雜質，要求電解用的陰極做成凹凸的外表，這樣可以進步電解的效果。但陰極上的凹處不宜太深，以避免電流密渡過小而使雜質不能在這些部位堆積或復原。

    3、電解進程中，要定時刷洗陰極：因為電解的時間一般都比擬長，長時間的電解進程中，陰極上能夠會發(fā)生蓬松的堆積物，它的零落會從新沾污鍍液，所以在電解一段工夫后，應將陰極取出刷洗，把陰極上蓬松或不良的堆積物刷去后再持續(xù)電解。

    4、電解解決前，先做小實驗預計一下電解的效果和時間：有些雜質，用電解很難除去，若一味地采用電解處理，可能花了很長工夫也不能使鍍液恢復正常。

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